[19p-E304-1~13] 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology

[19p-E304-5] Characteristics of H₂-Syntering Process Using Minimal Focused Light Heating Furnace

〇Noriko Miura^1,2, Kazushige Sato¹, Fumito Imura^1,3, Takeshi Yamada^1,2, Takeshi Aizawa^1,2, Shinichi Ikeda^1,3, Yuuki Ishida^1,3, Yasuhiro Onishi^1,2, Sommawan Khumpuang^1,3, Shiro Hara^1,3 (1.MINIMAL, 2.YONEKURA, 3.AIST)

Keywords:minimalfab, H2-Syntering, furnace

我々はミニマル加熱装置として、抵抗加熱炉、レーザ加熱炉、集光加熱炉の3種類の異なる加熱方式の装置を開発しており、既に、ゲート酸化プロセスでは、いずれの加熱装置でも実用レベルのトランジスタ特性を得ている。一方、H₂シンタリングプロセスでは、レーザ加熱炉以外での評価は行っていなかった。本研究では、ミニマル集光加熱炉でH2シンタリング処理を行い、その特性について報告する。