[19p-E318-1~10] 7.1 X-ray technologies

[19p-E318-3] Concave Mo/Si Multilayer Mirror for High-Magnification EUV Microscopy

〇Syunsuke Aizawa^1,2, Toshiyuki Kakudate¹, Mitsunori Toyoda^1,2 (1.Tohoku Univ. IMRAM, 2.Tokyo polytechnic Univ.)

Keywords:EUV microscopy

我々は波長13.5nmの極紫外線(EUV)を用いる透過型EUV顕微鏡を開発している。顕微鏡は、LPP光源とMo/Si多層膜ミラー光学系からなり、実験室環境で簡便に高分子材料等のナノイメージングが可能となる。光学系は5枚のMo/Si多層膜ミラーの製作が鍵となり、我々はこれまで拡大光学系に用いる3枚のミラーの内2枚を完成させた。本講演では拡大光学系用の付加拡大用多層膜ミラーの成膜結果について報告する。