[19p-PA2-1~9] 3.7 レーザープロセシング

[19p-PA2-2] 液中レーザーアブレーション法と超音波処理法によるBi₂Se₃ナノ構造体の作製

〇(M2)大隅 優¹、コインカー パンカジーマドゥガ¹、古部 昭広¹ (1.徳島大学)

キーワード：ナノ材料、レーザーアブレーション

超短パルスを有するレーザーは微細加工やナノ粒子の作製に使用される。現在、レーザーアブレーションという技術がレーザーの応用として、注目されている。レーザーアブレーションは実験の容易さ、低コスト、化学反応による残存物がないことなど、ナノ構造体作製法として利点がある。この研究ではパルス幅が約10ナノ秒、約100フェムト秒の二種類のレーザーを用いて、Bi2Se3のナノ構造体を作製しその構造の特徴を比較検討する。