[19p-PA3-1~9] 6.1 Ferroelectric thin films

[19p-PA3-9] Energy Band Alignment in Metal-Oxide Junction

〇Jun Kano¹, Norihiro Oshime², Satoshi Hirose³, Takeji Ueda¹, Shintaro Yasui⁴, Yosuke Hamasaki⁴, Mitsuru Itoh^2,4, Hitoshi Mikami³, Naoshi Ikeda¹, Tatsuo Fujii¹, Kodai Kashihara¹, Julien Schneider⁵ (1.Grad. Sch. of Sci. Tech., Okayama Univ., 2.AIST, 3.Honda R&D, 4.MSL, Tokyo Tech., 5.INPT)

Keywords:semiconductor, catalyst, Kelvin probe force microscopy

異なる酸化物薄膜に接合させたPd金属薄膜の仕事関数をケルビンフォース顕微鏡で計測し，酸化物によって変化する仕事関数の挙動を金属−酸化物間で起こるバンドアライメントから議論する。さらに，NO分子のPd表面での解離吸着過程を電流−電圧測定で観測し，分子吸着によるバンドアライメント違いもわかったので報告する。