[19p-PB2-1~7] 13.5 デバイス／配線／集積化技術

[19p-PB2-6] レジスト現像液に対する多価アルコールの添加効果

〇梶田 舜平¹、福永 浩一¹、堀邊 英夫² (1.阪本薬品、2.大阪市大)

キーワード：フォトレジスト、溶解性、現像工程

半導体フォトレジストの現像工程における課題として、未露光部の溶解に伴う解像度の低下やパターン倒壊が挙げられる。これに対し、多価アルコールを添加することで、レジストの溶解性を制御し、レジストの寸法安定性を向上させると考えられているが、その作用機序について詳細な言及はなされていない。本研究では、現像液に多価アルコールを添加した際の感度曲線を作成し、レジスト作製への影響について考察した。