[20a-C309-1~13] 6.1 Ferroelectric thin films

[20a-C309-12] Fabrication and characterization of BiFe_0.9Co_0.1O₃ nanodot array by using anodic porous alumina mask

〇Keita Ozawa¹, Marin Katsumata¹, Kei Shigematsu^1,2, Masaki Azuma^1,2 (1.MSL Tokyo Tech, 2.KISTEC)

Keywords:bismuth ferrite, multiferroic, microfabrication

強誘電・弱強磁性体であるBiFe_0.9Co_0.1O₃薄膜は電場印加磁化反転が観測されており、省電力磁気メモリとしての応用が期待される。本研究では、BiFe_0.9Co_0.1O₃の強誘電・強磁性ドメインを単一化するために、陽極酸化ポーラスアルミナのマスクを用いたナノドットの製作を行った。実験では、陽極酸化によって約65 nmの孔径を持つマスクの作製に成功した。さらに、マスクを転写した基板への成膜によって直径約60 nmのBiFe_0.9Co_0.1O₃ナノドットの作製に成功した。