The 80th JSAP Autumn Meeting 2019

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Oral presentation

6 Thin Films and Surfaces » 6.4 Thin films and New materials

[20a-C310-1~12] 6.4 Thin films and New materials

Fri. Sep 20, 2019 9:00 AM - 12:15 PM C310 (C310)

Yuji Muraoka(Okayama Univ.), Nobuyuki Iwata(Nihon Univ.)

12:00 PM - 12:15 PM

[20a-C310-12] In Situ Observation of Crystallization Process of SiC with Si-Ag flux

Naoki Sannodo1, Shingo Maruyama1, Tomoyuki Koganezawa2, Yuji Matsumoto1 (1.Tohoku Univ., 2.JASRI)

Keywords:crystallization, silicon carbide, in situ observation

SiCの低温液相成長に向けて、SPring-8の放射光を用いたin situ 2D-XRDにより低融点のフラックスを用いたa-SiC薄膜の結晶化をその場観察した。その結果、1000℃以下の低温度域でSi-AgフラックスがSiC結晶化を促進することを見出した。また、低温液相成長に適するフラックスの条件を検討した。