[20a-E203-1~12] 7.5 Ion beams

[20a-E203-1] Crystal orientation dependence of sputtering yields and effect of channeling

〇(M2)Shuhei Yamamoto¹, Takanori Nagasaki¹, Masato Yoshino¹, Tomoaki Yamada¹ (1.Nagoya Univ.)

Keywords:sputtering, pure metal, ion beam

金属多結晶を用いたスパッタリングの実験と標的内部でのイオンの挙動に関する計算を行った。結果より、スパッタリング収率は表面付近で停止したイオンの割合と対応しており、スパッタリング収率と非チャネリング確率は対応していた。ただし、表面付近で原子をはじき出した後にチャネリングを起こしたイオンも存在するため、定量的な議論を行うためにはこのようなイオンの扱いに注意する必要があることがわかった。