2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

7 ビーム応用 » 7.5 イオンビーム一般

[20a-E203-1~12] 7.5 イオンビーム一般

2019年9月20日(金) 09:00 〜 12:15 E203 (E203)

柳沢 淳一(滋賀県立大)、二宮 啓(山梨大)

09:15 〜 09:30

[20a-E203-2] 低仕事関数触媒表面での電荷交換反応による負イオン生成

眞銅 雅子1、田代 恭兵2、関谷 隆夫2、首藤 健一2 (1.大阪工大工、2.横国大院工)

キーワード:負イオン、仕事関数、電荷交換反応

本研究では負イオンの表面生成過程の物理を明らかにするため、水分子を吸着させた銀薄膜へHe正イオンビームを照射し、仕事関数の減少とともにHe負イオン生成量が増加する様子を実験的に示した。また銀基板表面-He原子間の共鳴状態を通した電子供給により負イオンが生成される一方で、基板表面に水分子層が存在する場合は基板の波動関数の遮蔽により負イオン生成量低下が生じる様子を、第一原理計算により明らかにした。