[20a-E306-1~12] 8.5 Plasma phenomena, emerging area of plasmas and their new applications

[20a-E306-8] Study of controlling electrospray deposition with a ternary ring electrode

〇(M1)Yuta Kuwahata¹, Hiroaki Takehara^1,2, Takanori Ichiki^1,2 (1.Univ. Tokyo, 2.iCONM)

Keywords:electrospray

本研究では、従来のエレクトロスプレー堆積装置に第三リング電極を設置することで高分子薄膜製作技術の向上を図る。エレクトロスプレー現象は、シングルテイラーコーンの状態で安定性を持つが、その閾値電圧が第三リング電極によって制御できることが分かった。