[20a-PA2-1~11] 3.5 Laser system and materials

[20a-PA2-10] Narrow-band 1553nm Laser Based on Optical Parametric Amplification

〇Chen Qu¹, Yohei Tanaka¹, Taisuke Miura¹, Junichi Fujimoto¹, Hakaru Mizoguchi¹ (1.Gigaphoton Inc.)

Keywords:DUV solid-state laser, lithography, optical parametric amplification

半導体露光用193nmのArFエキシマレーザには、狭帯域と波長可変性の両方が求められる。固体レーザをシード光としたハイブリッドArFレーザは、従来のArFレーザより優れる性能を有するため、ファイバレーザベースの深紫外固体レーザの開発を行っている。現在開発中の固体オシレータは、1030nm光の高次高調波と1553nm光の和周波混合により193nm光を発生する構造となる。高出力化1553nm光を実現するため、本研究では1030nm光を励起とする光パラメトリック増幅器を開発し、報告する。