The 80th JSAP Autumn Meeting 2019

Presentation information

Poster presentation

8 Plasma Electronics » 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

[20a-PA4-1~14] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

Fri. Sep 20, 2019 9:30 AM - 11:30 AM PA4 (PA)

9:30 AM - 11:30 AM

[20a-PA4-10] Nitrogen Plasma Processing of Photocatalyst by using Electron Beam Excited Plasma

〇(M2)Hayato Tomii1, Yuichirou Takemura1 (1.Kindai Univ.)

Keywords:plasma

光触媒の代表である酸化チタンは防汚、脱臭、抗菌等の様々な効果を持ち、各種用途で利用されている。しかし、紫外光でのみ反応するため、屋内で使用するには可視光応答化が必要不可欠となっている。現在、注目されているのが酸化チタンに窒素ドープを行うことであり、バンド内に不純物準位を作ることで可視光域での反応が可能とされる。本研究では電子ビーム励起プラズマ装置を用いて、酸化チタンに窒素プラズマ処理を行った。