[20p-C310-1~16] 6.4 薄膜新材料

△ [20p-C310-1] ダイナミックオーロラPLD法を用いたペロブスカイト型酸窒化物CaTaO₂N薄膜の作製

〇青島 楓汰¹、川口 昂彦¹、坂元 尚紀¹、鈴木 久男¹、脇谷 尚樹¹ (1.静大院工)

キーワード：酸窒化物、ダイナミックオーロラPLD、薄膜

我々はこれまでに、成膜中に磁場印加が可能であるダイナミックオーロラPLD法を用いて、ペロブスカイト酸窒化物薄膜の作製に取り組んできた。本手法を用いることでSrTaO₂Nエピタキシャル薄膜の作製に成功し、強誘電性も確認された。今回、CaTaO₂NについてもダイナミックオーロラPLD法を用いて薄膜作製を行ったところ、強誘電特性の発現を確認したので報告する。