[20p-C310-1~16] 6.4 Thin films and New materials

△ [20p-C310-10] Comparison of highly stable silver thin film deposited in defferent gases

〇Takeshi Hamano¹, Eita Kudo¹, Midori Kawamura¹, Takayuki Kiba¹, Yoshio Abe¹, Kyung Ho Kim¹, Hiroshi Murotani² (1.Kitami Inst. of Tech., 2.Tokai Univ.)

Keywords:Silver thin film, Sputter gas, Electrical resistivity

スパッタリング法においてターゲット原子とガス原子の質量数が近い方が良質な膜ができることが知られている。そこで本研究ではArとKrガスを用いて膜厚150 nmのAg膜及びAl表面層1, 3 nmを積層したAl/Ag膜を作製し、特性の比較を行った。ArとKrガスで作製した各膜を比較すると、Krガスの膜の方がより低い電気抵抗率と大きい結晶子径を示した。またガス種を問わずAg膜及びAl 1 nm積層Ag膜の波長500 nmでの反射スペクトルが約97 %を示した。