[20p-E203-7~19] 3.5 レーザー装置・材料

[20p-E203-9] 高出力超短パルスレーザーのためのNd: CaF₂透明セラミックスの開発

〇横関 海翔¹、藤岡 加奈¹、時田 茂樹¹、荻野 純平¹、北島 将太朗¹、宮永 憲明²、河仲 準二¹ (1.阪大レーザー研、2.レーザー総研)

キーワード：レーザー材料

Nd:CaF₂は発振波長のFWHMが数十nmと広いことが報告されており、サブピコ秒増幅が可能な高出力超短パルスレーザー用の媒質として期待されている。だが、Nd: CaF₂はCa²⁺とNd³⁺の価数の違いに起因するNd³⁺のクラスター化が消光の原因となっている。バッファー元素の添加によりクラスター化を抑制することが課題である。今回は透明セラミック化するために材料粉体の合成に関する研究結果を報告する。