2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.12 ナノ領域光科学・近接場光学

[20p-E208-1~21] 3.12 ナノ領域光科学・近接場光学

2019年9月20日(金) 13:15 〜 19:00 E208 (E208)

田中 嘉人(東大)、西島 喜明(横国大)、井村 考平(早大)

16:45 〜 17:00

[20p-E208-14] 動的斜め蒸着法を用いて作製したTiNナノワイヤからなるハイパボリックメタマテリアル

矢次 健一1、西川 和孝1 (1.豊田中研)

キーワード:窒化チタン、ハイパボリックメタマテリアル、ナノワイヤ

ハイパボリックメタマテリアル(HMM)は大きな光学異方性に起因するユニークな光学特性を持つことから注目を集めている.本研究では,動的斜め蒸着法を用いて作製したTi ナノワイヤアレイ(NWA)をアンモニア中で熱処理することで,TiN NWAからなるHMMを作製した.850 nm以上の波長範囲でεおよびεの符号はそれぞれ負および正であったことから,この波長範囲においてHMMであることが確認された.