[20p-PB2-1~18] 7 Beam Technology and Nanofabrication (Poster)

[20p-PB2-15] Optical Design of Concave Mo/Si Multilayer Mirror for EUV Illumination optics

〇Syunsuke Aizawa^1,2, Shuntaro Waki², Toshiyuki Kakudate¹, Mitsunori Toyoda^1,2 (1.Tohoku Univ. IMRAM, 2.Tokyo polytechnic Univ.)

Keywords:EUV microscopy

我々は波長13.5nmの極紫外線(EUV)を用いた透過型EUV顕微鏡の開発を行っている。この顕微鏡は、LPP光源とMo/Si多層膜ミラーを用いた光学系からなり、EUV特有の軽元素域での元素コントラストを用いた高分子材料などのナノスケール観察が可能である。顕微鏡には5枚のMo/Si多層膜ミラーを用いた照明・拡大光学系が必要で、我々はこれまでに拡大光学系に用いる3枚のミラーを作製した。今回の発表では照明光学系用の多層膜ミラーの成膜設計を中心に報告する。