The 80th JSAP Autumn Meeting 2019

Presentation information

Oral presentation

6 Thin Films and Surfaces » 6.4 Thin films and New materials

[21a-C310-1~12] 6.4 Thin films and New materials

Sat. Sep 21, 2019 9:00 AM - 12:15 PM C310 (C310)

Hiroaki Nishikawa(Kindai Univ.)

9:15 AM - 9:30 AM

[21a-C310-2] Cross-sectional Observation of Cr-N Thin Film Strain Sensor Devices based Stainless Steel Substrate using Coating Type Clay Insulating Layer

Eiji Niwa1, Shinya Hayashi2, Ichiro Sugai2, Yukinori Noguchi2, Takashi Iijima3, Osamu Tanaike3, Takeo Ebina3 (1.Denjiken, 2.Ichinen Chemicals, 3.AIST)

Keywords:coating type insulating layer, clay, Cr-N thin film

金属基材上への薄膜センサ形成に必要な絶縁層として,簡便で安価に形成できる新規塗布型粘土絶縁膜が期待されている。著者らはこれまで,その粘土膜が絶縁膜として良好な密着性,表面平滑化機能,電気的性質を有すること,その絶縁膜を用いたステンレス基板Cr-N薄膜ひずみセンサ素子が高感度で安定なひずみ計測を可能とすること等を報告した。本報では,その薄膜センサ素子の断面観察結果について報告する。