The 80th JSAP Autumn Meeting 2019

Presentation information

Oral presentation

15 Crystal Engineering » 15.4 III-V-group nitride crystals

[21a-E310-1~10] 15.4 III-V-group nitride crystals

Sat. Sep 21, 2019 9:00 AM - 11:45 AM E310 (E310)

Hisashi Murakami(TUAT), Shugo Nitta(Nagoya Univ.)

9:15 AM - 9:30 AM

[21a-E310-2] Suppression of polycrystal generation on lithium added flux for enhancement of GaN growth on Na flux point seed method

Kazuma Hamada1, Takumi Yamada1, Kosuke Murakami1, Masayuki Imanishi1, Masashi Yoshimura1,2, Yusuke Mori1 (1.Grad. sch. of Eng. Osaka univ., 2.ILE. Osaka univ.)

Keywords:GaN, Na flux method, point seed

本研究室ではNaフラックス法を用いて低転位なGaN結晶の作製に成功している。また、ポイントシード法と呼ばれる技術を用いることでさらに低転位な基板を作製することが可能である。さらなる低転位化に向けて、ポイントシードの径を小さくしたいが、径を小さくすると成長しなくなるため、Liを添加することで成長促進を促した。しかしながら、Li添加系では多結晶が発生してしまうため、今回多結晶の抑制に取り組んだ。