石戸谷悠治

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発表者・著者、共著者

2019年3月10日(日) 09:00 〜 12:15 W631 (W631)

一般セッション(口頭講演)
| 3 光・フォトニクス
| 3.7 レーザープロセシング

[10a-W631-1~12] 3.7 レーザープロセシング

11:30 〜 11:45

[10a-W631-10] レーザー誘起気泡を用いたPDMSポリマーの特殊加工(2)

〇石戸谷悠治¹、成瀬智哉¹、花田修賢¹ (1.弘前大理工)