15:00 〜 15:15 △ [10p-W323-5] 反応性マグネトロンスパッタ法を用いたEuH2エピタキシャル薄膜の作製 〇(M1)小松 遊矢1、清水 亮太1,2、小林 成1、西尾 和記1、一杉 太郎1 (1.東工大物質理工、2.JSTさきがけ)