13:45 〜 14:00 [10p-W641-1] 電子デバイスへの応用に向けたNiO薄膜およびNiO/絶縁膜に与えるポストプロセスの影響 〇岡田 浩明1、王 澤樺1、田沼 涼1、杉山 睦1,2 (1.東理大 理工、2.東理大 総研)