Thant Zin Win

発表者・著者、共著者

2019年3月9日(土) 13:45 〜 17:15 S011 (南講義棟)

一般セッション(口頭講演)
| 21 合同セッションＫ「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」
| 21.1 合同セッションＫ「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[9p-S011-1~13] 21.1 合同セッションＫ「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

15:15 〜 15:30

▲ [9p-S011-7] Growth of Tin Oxide Film with Buffer Layer on Sapphire Substrate by Mist Chemical Vapor Deposition

〇Thant Zin Win¹、Takumi Furukawa¹、Yudai Tanaka¹、Koshi Okita¹、Koji Sue²、Zenji Yatabe^1,3、Yusui Nakamura^1,4,5 (1.GSST, Kumamoto Univ.、2.Fac. of Eng., Kumamoto Univ.、3.POIE, Kumamoto Univ.、4.FAST, Kumamoto Univ.、5.Kumamoto Phoenics)