シンポジウム(口頭講演)
シンポジウム » 新デバイス・材料開発のためのナノスケール2次元/3次元分析(II)
2019年3月10日(日) 13:30 〜 17:45 W933 (W933)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:30 〜 14:00
〇臼田 宏治1 (1.東芝メモリ)
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14:00 〜 14:15
〇横町 伝1、院南 晧一1、小林 圭1、山田 啓文1 (1.京大工)
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14:15 〜 14:45
戸野 博史1、木村 邦子1、小林 圭1、〇山田 啓文1 (1.京大院工)
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14:45 〜 15:15
〇辻 俊宏1 (1.東北大)
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15:15 〜 15:30
〇李 智蓮1、Kim Jeong Rae2,3、Mun Junsik2,4、Kim Yoonkoo2,4、Shin Yeong Jae2,3、Kim Bongju2,3、Das Saikat2,3、Wang Lingfei2,3、Kim Miyoung2,4、Kim Tae Heon5、Noh Tae Won2,3、リップマー ミック1 (1.東大物性研、2.CCES, IBS、3.ソウル大物理天文学部、4.ソウル大新素材研、5.蔚山大)
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15:45 〜 16:15
〇長谷川 正樹1、小林 健二1、兼岡 則幸1、尾方 智彦1、大平 健太郎1、川上 和弘1、郡司 毅志1、小貫 勝則1 (1.日立ハイテク)
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16:15 〜 16:45
〇筒井 一生1、松下 智裕2、名取 鼓太郞1、小川 達博1、室 隆桂之2、森川 良忠3、星井 拓也1、角嶋 邦之1、若林 整1、林 好一4、松井 文彦5、木下 豊彦2 (1.東工大、2.高輝度光科学研究センター、3.阪大、4.名工大、5.分子研)
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16:45 〜 17:15
〇山下 良之1 (1.物材件)
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17:15 〜 17:45
〇表 和彦1、伊藤 義泰1 (1.リガクX線研究所)
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