一般セッション(ポスター講演)
3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング
2019年3月9日(土) 16:00 〜 18:00 PB2 (武道場)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
16:00 〜 18:00
〇(M1)XIN HU1、Mardiansyan Mardis1、Wahyu Diono1、Noriharu Takada1、Hideki Kanda1、Motonobu Goto1 (1.Nagoya Univ.)
スケジュール
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16:00 〜 18:00
〇池田 佳奈子1、大西 有佳里1、吉川 裕之1、民谷 栄一1 (1.阪大院工)
スケジュール
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16:00 〜 18:00
鈴木 智貴1、〇斉藤 光徳1 (1.龍谷大理工)
スケジュール
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16:00 〜 18:00
〇(M2)後藤 勇人1、宇野 和行1、實野 孝久2 (1.山梨大工、2.阪大レーザー研)
スケジュール
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16:00 〜 18:00
〇尾崎 諒1、花田 修賢1 (1.弘前大理工)
スケジュール
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16:00 〜 18:00
〇奈良崎 愛子1、高田 英行1、吉富 大1、鳥塚 健二1、小林 洋平2 (1.産総研、2.東大物性研)
スケジュール
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16:00 〜 18:00
〇欠端 雅之1、屋代 英彦1、大矢根 綾子2、伊藤 敦夫3、鳥塚 健二1 (1.産総研 電子光技術、2.産総研 ナノ材料、3.産総研 健康工学)
スケジュール
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16:00 〜 18:00
石川 和香子1、〇佐藤 俊一1 (1.東北大多元研)
スケジュール
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16:00 〜 18:00
〇(B)西村 拓己1、下林 紀幸1、水谷 浩也1、齋藤 隆之1 (1.静大工)
スケジュール
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16:00 〜 18:00
〇Hsin-hui Huang1、Takeshi Nagashima2、Saulius Juodkazis3、Koji Hatanaka1 (1.Academia Sinica、2.Setsunan Univ、3.Swinburne Univ. of Tech.)
スケジュール
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16:00 〜 18:00
〇(M1)三浦 誠1、長谷川 智士1、岩永 将司2、早崎 芳夫1 (1.宇都宮大オプティクス、2.宇都宮大農)
スケジュール
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16:00 〜 18:00
〇佐藤 正健1、田代 賢一1、川口 喜三1、大村 英樹1、秋山 陽久1 (1.産総研)
スケジュール
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