[10a-M112-1~6] 2.3 放射線応用・発生装置・新技術

[10a-M112-3] 化学機械研磨を用いたMEMS X線光学系の鏡形状改善

〇福島 碧都¹、藤谷 麻衣子¹、石川 久美²、沼澤 正樹¹、伊師 大貴¹、大坪 亮太¹、鈴木 光¹、永利 光¹、湯浅 辰哉¹、大橋 隆哉¹、満田 和久²、江副 祐一郎¹ (1.首都大、2.宇宙研)

キーワード：化学機械研磨、X線光学系、深掘り反応性イオンエッチング

我々は MEMS 技術を利用した宇宙X線光学系を開発している。薄い Si ウェハにドライエッチングで微細穴を形成し、その側壁をX線反射鏡として用いる。従来の試作では、エッチング後の反射鏡面にバリが存在し、有効面積の低下をもたらすことが分かっていた。そこで化学機械研磨を利用したプロセスを導入し、この課題の解決を試みた。本講演ではこの新プロセスを含む光学系の製作過程と光学系の性能改善について報告する。