2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.2 カーボン系薄膜

[10a-M113-1~6] 6.2 カーボン系薄膜

2019年3月10日(日) 10:00 〜 11:30 M113 (H113)

中村 挙子(産総研)

10:00 〜 10:15

[10a-M113-1] 常温接合によるSiC-BOX層SOIウェーハの検討

古賀 祥泰1、栗田 一成1 (1.株式会社 SUMCO)

キーワード:SOIウェーハ、炭化珪素、常温接合貼り合わせ

我々は,SOIウェーハ上に作製したパワーデバイスの自己発熱を対策するために,BOX層を熱伝導率が高い絶縁材料で形成するSOIウェーハを検討している.今回,SiCをBOX層に設定し,さらにSiC層上へシリコン層を真空常温接合するSOIウェーハの可能性について報告する.