[10a-M113-1~6] 6.2 カーボン系薄膜

△ [10a-M113-5] フィルタードパルスアーク蒸着法を用いたシリコン含有DLC膜の形成

〇杉江 侑哉¹、戸谷 陽文¹、谷本 壮¹、針谷 達¹、須田 善行¹、滝川 浩史¹、神谷 雅男²、國次 真輔³、金子 智⁴、瀧 真⁵ (1.豊橋技科大、2.伊藤光学、3.岡山県工技セ、4.神奈川県立産総研、5.オンワード技研)

キーワード：ダイヤモンドライクカーボン膜、シリコン含有DLC膜

本研究では，フィルタードパルスアーク蒸着法を用いてSi含有DLC（Si-DLC）膜を形成し，その膜特性を分析した。SiフリーDLC膜およびSi-DLC膜を超硬基板上に形成した。陰極にはSi含有量の異なる黒鉛（0, 2, 5, 10 at.%）を用いた。XPS分析の結果，膜中のSi含有量は陰極中の含有量よりも高い傾向を示した。ラマン分光分析により，全ての試料でDピークとGピークからなるハイブリットピークが確認されたことから，形成膜はDLC膜であると考えられる。