[10a-PA3-1~10] 6.1 強誘電体薄膜

[10a-PA3-5] 反応性スパッタリング法を用いたBaTiO3膜の作製

〇牧野 碧¹、西出 正道²、西田 謙¹ (1.防衛大、2.先導技術研究所)

キーワード：チタン酸バリウム、反応性スパッタリング

本研究では酸素を直接基板に吹き付けることでターゲットの酸化の抑制及び基板上の酸化速度をあげることを両立し、チタン酸バリウム薄膜の製膜速度を向上させることはできないかを検討した。変更した装置の概要説明に加え、検討した方法(メタルモード)で製膜したチタン酸バリウムと従来の方法(化合物モード)で製膜したチタン酸バリウムを評価し比較した。