[10a-S011-1~8] 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[10a-S011-5] ミストCVD法によるn型およびp型ZnO成膜への挑戦

〇西 美咲¹、刘 丽¹、ルトンジャン ピモンパン¹、佐藤 翔太¹、上田 真理子¹、安岡 龍也¹、長谷川 諒¹、田頭 侑貴¹、尾崎 珠子¹、鄧 太 江¹、川原村 敏幸¹ (1.高知工科大)

キーワード：ミストCVD法