[10a-W241-1~7] 8.3 Plasma nanotechnology

△ [10a-W241-4] Effects of duty ratio in electrical stimulation-applied cell culture on carbon nanowall scaffold

〇Tomonori Ichikawa¹, Hiroki Kondo¹, Hiroshi Hashizume¹, Hiromasa Tanaka¹, Takayoshi Tsutsumi¹, Kenji Ishikawa¹, Masaru Hori¹ (1.Nagoya Univ.)

Keywords:Carbon nanowalls, Cell culture, Electrical stimulation

細胞の培養足場に注目が集まっており、我々は多層グラフェンが基板上に垂直に成長したカーボンナノウォール (CNWs) に着目し 、CNWs 足場上での電流刺激による細胞増殖率の上昇を見出した。しかし CNWs 上での電気刺激が細胞培養に及ぼす効果の詳細は明らかでない。本研究では電気刺激の負荷率の変化が細胞増殖に及ぼす効果を調べた。