The 66th JSAP Spring Meeting, 2019

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Oral presentation

8 Plasma Electronics » 8.3 Plasma nanotechnology

[10a-W241-1~7] 8.3 Plasma nanotechnology

Sun. Mar 10, 2019 9:00 AM - 10:45 AM W241 (W241)

Yasunori Tanaka(Kanazawa Univ.)

10:00 AM - 10:15 AM

[10a-W241-5] Continuous Growth of Silicon Nanorods by Plasma Flash Evaporation and Their Lithium-ion Battery Anode Feasibilities

Akihiro Tanaka1, Ryoshi Ohta1, Masashi Dougakiuchi2, Makoto Kambara1 (1.The Univ. of Tokyo, 2.Shimane Inst. for Ind. Tech.)

Keywords:silicon nanostructure, plasma spray, lithium-ion battery anode

次世代高密度Liイオン電池負極として高容量と高サイクル安定性の両立が期待されるSiナノロッド(SiNR)を,原料分離投入プラズマフラッシュ蒸発法(sPFE)により安価粉体原料からも高速で連続生成しうることを確認した.触媒連続生成過程を含むSiNR成長モデル提案を通じて,当該PFEプロセス時のSiNR成長の特徴と成長制御指針を定量的に明らかにすると共に,電池負極活物質としての影響を確認した。