The 66th JSAP Spring Meeting, 2019

Presentation information

Oral presentation

16 Amorphous and Microcrystalline Materials » 16.3 Bulk, thin-film and other silicon-based solar cells

[10a-W611-1~9] 16.3 Bulk, thin-film and other silicon-based solar cells

Sun. Mar 10, 2019 9:30 AM - 12:00 PM W611 (W611)

Katsuhiko Shirasawa(AIST)

11:30 AM - 11:45 AM

[10a-W611-8] Fabrication of Si Quantum Dot Solar Cells with SiOx as a Barrier Layer

Ryushiro Akaishi1, Kouhei Kitazawa1, Shinya Kato2, Kazuhiro Gotoh1, Noritaka Usami1, Yasuyoshi Kurokawa1 (1.Nagoya Univ., 2.Nagoya Inst. of Tech.)

Keywords:solar cell

太陽電池の変換効率を飛躍的に向上させる方法の一つとして、タンデム型太陽電池が注目されている。我々はトップセル候補材料の一つであるSi量子ドットを格子状に配列させたSi量子ドット超格子(Si-QDSL)を光吸収層として用いたSi量子ドット太陽電池について研究を行っている。本研究では、OによるSi量子ドット界面のパッシベーション効果が期待できるSiOxを障壁層として用い、i型Si-QDSL層を光吸収層とする太陽電池を作製、評価を行った。