2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング

[10a-W631-1~12] 3.7 レーザープロセシング

2019年3月10日(日) 09:00 〜 12:15 W631 (W631)

西 哲平(豊田中研)、溝尻 瑞枝(長岡技科大)

09:00 〜 09:15

[10a-W631-1] Cu含有クラスターを前駆体とした水の酸化触媒
-中性付近の電解質水溶液中における電気化学触媒活性-

西 哲平1、佐藤 俊介1、荒井 健男1、森川 健志1 (1.豊田中研)

キーワード:人工光合成、水の酸化反応、レーザーアブレーション

我々が提案している気‐液界面レーザーアブレーションによりCuクラスターを創製した。Cuクラスターを前駆体として用い、電気化学的に酸化させることによりCuO触媒を創製した。得られたCuO触媒を用いてホウ酸ナトリウム緩衝液中(pH 9.2)で電気化学測定を行った。既報のCuO触媒、比較として測定したCu, Cu2O, Cu触媒、液中レーザーアブレーションで作製したCu-Cu2Oナノ粒子触媒と比較して過電圧が最小となり、高い性能を示した。