The 66th JSAP Spring Meeting, 2019

Presentation information

Oral presentation

3 Optics and Photonics » 3.7 Laser processing

[10a-W631-1~12] 3.7 Laser processing

Sun. Mar 10, 2019 9:00 AM - 12:15 PM W631 (W631)

Teppei Nishi(Toyota Central R&D Labs), Mizue Mizoshiri(Nagaoka Univ. Tech.)

9:45 AM - 10:00 AM

[10a-W631-4] Defect Control by Vacuum Annealing Treatment of Ultraviolet Sensor Using CeF3 Thin Film

Seiya Kato1, Kentaro Suzuki1, Jun Otani1, Masahiko Kase2, Shingo Ono1 (1.Nagoya Inst., 2.USHIO INC.)

Keywords:ultraviolet sensor, annealing treatment, pulsed laser deposition

近年の紫外光源の高出力化に伴い、紫外光を長時間安定にモニタリングするためのセンサの開発が求められている。我々はこれまでに紫外光に対して高い耐久性がありワイドバンドギャップ材料であるフッ化物を用いて光伝導型の紫外光センサの開発を行ってきた。本発表では、パルスレーザー堆積法によって作製したCeF3薄膜に真空中でアニール処理を行うことで薄膜品質及びセンサ性能に与える影響を調査したのでこれを報告する。