[10a-W631-1~12] 3.7 レーザープロセシング

[10a-W631-4] CeF₃ 薄膜を用いた紫外光センサの真空中アニール処理による欠陥制御

〇加藤 誠也¹、鈴木 健太郎¹、大谷 潤¹、加瀬 征彦²、小野 晋吾¹ (1.名工大、2.ウシオ電機)

キーワード：紫外光センサ、アニール処理、パルスレーザー堆積法

近年の紫外光源の高出力化に伴い、紫外光を長時間安定にモニタリングするためのセンサの開発が求められている。我々はこれまでに紫外光に対して高い耐久性がありワイドバンドギャップ材料であるフッ化物を用いて光伝導型の紫外光センサの開発を行ってきた。本発表では、パルスレーザー堆積法によって作製したCeF₃薄膜に真空中でアニール処理を行うことで薄膜品質及びセンサ性能に与える影響を調査したのでこれを報告する。