2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[10a-W641-1~10] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2019年3月10日(日) 09:00 〜 11:45 W641 (W641)

片山 司(東大)

10:30 〜 10:45

[10a-W641-6] 強誘電性HfO2ゲート3端子素子によるVO2電気伝導度の変調

矢嶋 赳彬1、西村 知紀1、鳥海 明1 (1.東大マテ)

キーワード:金属絶縁体転移、強誘電性、モットトランジスタ

強誘電性HfO2をゲート絶縁膜として、金属絶縁体転移材料であるVO2をチャネルとする3端子素子を作製した。HfO2の分極反転を反映して、パルス状のゲート電圧によって不揮発にVO2チャネル伝導度を変調することに成功した。