10:30 〜 10:45
[10a-W641-6] 強誘電性HfO2ゲート3端子素子によるVO2電気伝導度の変調
キーワード:金属絶縁体転移、強誘電性、モットトランジスタ
強誘電性HfO2をゲート絶縁膜として、金属絶縁体転移材料であるVO2をチャネルとする3端子素子を作製した。HfO2の分極反転を反映して、パルス状のゲート電圧によって不揮発にVO2チャネル伝導度を変調することに成功した。
一般セッション(口頭講演)
6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス
2019年3月10日(日) 09:00 〜 11:45 W641 (W641)
片山 司(東大)
10:30 〜 10:45
キーワード:金属絶縁体転移、強誘電性、モットトランジスタ