[10p-M113-1~17] 10.5 磁場応用

[10p-M113-17] 磁場アセンブリ法で形成した2次元および3次元マイクロ構造体の微細構造制御

〇青木 画奈¹、瀧谷 昇哉²、山本 琢磨²、藤井 稔² (1.NICT、2.神戸大院工)

キーワード：磁場センブリ、自己組織化、3次元

我々はマイクロ構造体を、それらの常磁性・反磁性などの磁気的性質を利用し、外部磁場を印加することによって、自発的に規則配列させる、新しい遠隔微細構造組立技術の開発を進めている。これまでに、直径 1〜2.8 μm の常磁性球を、反磁性のフォトレジストパターンに2次元および3次元的に配列させ、UV 光を照射し球とパターンを融着することにより、構造を半永久的に保存する方法を確立している。本研究では2次元パターンの大きさ・形状による、常磁性球間のギャップ間距離と配置制御について報告する。また、反磁性フォトレジストパターンに常磁性球と反磁性球を3次元的に配置する方法を検討した。