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一般セッション(口頭講演)

10 スピントロニクス・マグネティクス » 10.5 磁場応用

[10p-M113-1~17] 10.5 磁場応用

2019年3月10日(日) 13:15 〜 18:00 M113 (H113)

山登正文(首都大)、山本勲(横国大)、三井好古(鹿児島大)

14:00 〜 14:15

△ [10p-M113-4] NIPAm修飾クレイ分散液におけるin-situ磁気複屈折

〇宮崎貴大¹、山登正文¹、川上浩良¹、廣田憲之² (1.首都大院都市環境、2.NIMS)

キーワード：磁場配向、クレイ分散液、複屈折、NIPAｍ、吸着、MMT