2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

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シンポジウム(口頭講演)

シンポジウム » 光プロセスの基礎過程に迫る計測・モニタリング技術の進展

[10p-M114-1~12] 光プロセスの基礎過程に迫る計測・モニタリング技術の進展

2019年3月10日(日) 13:30 〜 18:15 M114 (H114)

中村 大輔(九大)

13:30 〜 14:00

[10p-M114-1] 355 nmレーザーと高速FT-IRを組み合わせたステレオリソグラフィー用UV硬化樹脂の硬化挙動の解析

瀧 健太郎1 (1.金沢大学機械)

キーワード:ステレオリソグラフィ

本発表では,新たに355 nmレーザー,ガルバノミラー,高速FT-IRを組み合わせた光学系を構築し,ステレオリソグラフィー用オキセタン,エポキシ,アクリル三元系UV硬化樹脂の反応率の時間変化を測定した。その結果,アクリル>オキセタン>エポキシの順で反応速度及び反応率が高くなることが明らかになった。