2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

シンポジウム(口頭講演)

シンポジウム » 光プロセスの基礎過程に迫る計測・モニタリング技術の進展

[10p-M114-1~12] 光プロセスの基礎過程に迫る計測・モニタリング技術の進展

2019年3月10日(日) 13:30 〜 18:15 M114 (H114)

中村 大輔(九大)

17:30 〜 17:45

[10p-M114-10] レーザー照射によるガラス破壊現象の多変量パルス毎イメージング

〇(M1)島原 光平1、谷 峻太郎1、小林 洋平1 (1.東大物性研)

キーワード:レーザー加工、ガラス