2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

シンポジウム(口頭講演)

シンポジウム » 光プロセスの基礎過程に迫る計測・モニタリング技術の進展

[10p-M114-1~12] 光プロセスの基礎過程に迫る計測・モニタリング技術の進展

2019年3月10日(日) 13:30 〜 18:15 M114 (H114)

中村 大輔(九大)

18:00 〜 18:15

[10p-M114-12] 光渦パルスによるSiドロップレット飛翔の挙動観察

〇(M1)大島 広暉1、脇山 祐一朗1、川本 実季1、東畠 三洋1、池上 浩1、中村 大輔1 (1.九大シス情)

キーワード:マイクロスフィア、レーザーアブレーション、光渦

半導体微小球はその球形状から様々な応用が挙げられ、我々は大気中レーザーアブレーション法によりSiやZnOを材料としたマイクロ結晶球の合成に成功している。本手法は簡易でかつ光吸収のある物質に適応可能であると考えられる。一方、半導体微小球のデバイス応用においてはサイズや配置の制御が重要となる。本研究では光渦を導入した大気中レーザーアブレーション法による合成マイクロ結晶球の飛翔方向制御を目的とした。