[10p-M114-1~12] 光プロセスの基礎過程に迫る計測・モニタリング技術の進展

△ [10p-M114-8] 高電子密度領域への選択的光吸収によるガラスの超高速微細精密レーザ加工

〇伊藤 佑介¹、吉﨑 れいな¹、宮本 直之¹、柴田 章広²、長澤 郁夫²、長藤 圭介¹、杉田 直彦¹ (1.東大院工、2.AGC株式会社)

キーワード：レーザ加工、ガラス、電子密度

我々はこれまでに，フェムト秒レーザ照射によりガラス内部に局所的な高電子密度領域を形成し，その領域に選択的に連続波レーザを吸収させることで，従来の5000倍の加工速度でガラスの微細精密加工を実現している．本研究では，フェムト秒レーザと連続波レーザの照射タイミングが加工に及ぼす影響を調査することで，光吸収が一旦開始すれば，吸収開始位置を起点としてダイナミックに加工が伸展することを示した．