[10p-PA8-1~39] 17 ナノカーボン（ポスター講演）

[10p-PA8-14] HF-CVD 法によるシリコン系材料へのグラファイト形成

〇橋爪 瑞葵¹、高綱 藻¹、清水 麻希¹、加藤 大樹²、橋本 巖¹、本間 芳和¹ (1.東理大理、2.JEOL)

キーワード：グラフェン、HF-CVD

負極にシリコン系材料を用いた新しいリチウムイオンバッテリーの研究が行われており、シリコン系材料の欠点を補うためにグラファイト状カーボン膜でシリコン電極を覆うことが注目されている。本研究では、ホットフィラメント化学気相成長法を用いてシリコン酸化基板上へグラファイト状の炭素膜を無触媒で堆積させることを検討した。基板の温度が低いほどG/D比が大きい炭素膜が堆積していた。