[10p-PA8-1~39] 17 ナノカーボン（ポスター講演）

[10p-PA8-15] Ni-グラフェン接合の界面構造と接触抵抗の相関

〇殷 翔¹、葛西 誠也¹ (1.北大量子集積センター)

キーワード：グラフェン/金属接合、接触抵抗、TEM観察

グラフェン電子デバイスに欠かせないオーミック接合の金属材料として、接触抵抗が低いてNiがよく用いられているが、低抵抗となる機構の理解やプロセス最適化にはまだ検討の余地が残っている。理論的にはNi(111)とグラフェン間の空間ギャップ距離が他の金属と比較して小さいことが低接触抵抗の原因として指摘されている。本論文はTEM観察によりNi／グラフェンの界面構造を原子レベルで評価し、接触抵抗との関係について検討を行った結果について述べる。