[10p-PA8-1~39] 17 ナノカーボン（ポスター講演）

[10p-PA8-32] ヘリウムイオン照射グラフェンにおける磁気抵抗のドーズ量依存性

〇中村 周¹、岩﨑 拓哉²、ムルガナタン マノハラン¹、赤堀 誠志¹、守田 佳史³、森山 悟士²、小川 真一⁴、若山 裕²、水田 博^1,5、中払 周² (1.北陸先端大、2.物材機構、3.群馬大、4.産総研、5.日立ケンブリッジ研)

キーワード：グラフェン、局在、磁気抵抗