[10p-PA8-1~39] 17 ナノカーボン（ポスター講演）

[10p-PA8-5] グラフェンCVDにおけるIr(111)/α-Al2O3(0001)基板の再利用

〇櫻井 篤¹、仁木 雅也¹、北嵜 仁¹、渡辺 剛志¹、澤邊 厚仁¹、黄 晋二¹ (1.青学大理工)

キーワード：グラフェン、CVD、Ir

高品質かつ大面積のグラフェンを成長させる有力な方法として化学気相成長(CVD)が注目されている。現在CVDの下地基板として広く用いられているCuはCVD中に表面モルフォロジーが大きく変化することから再利用には適さない。そこで我々はCVDの下地基板として高融点で高い化学的安定性を有するIrに着目し、再利用に最適なIr(111)/α-Al₂O₃(0001)の作製条件とCVD条件の確立を目指して実験を行った。その結果について報告する。