[10p-PB5-1~55] 17 ナノカーボン（ポスター）

[10p-PB5-41] MoS₂スパッタ膜の硫化処理とラマン評価

〇山内 翔¹、関 健太¹、蓮池 紀幸¹、西尾 弘司¹、木曽田 賢治²、鴨井 督³ (1.京工繊大、2.和歌山大、3.京都府中小企業技術センター)

キーワード：二硫化モリブデン、ラマンスペクトル、硫化処理

二次元層状物質であるMoS₂は、単層化することで直接遷移半導体に転移する等の興味深い性質を示す。本研究では、実用化において重要な要素となる大面積での成膜が可能な高周波スパッタ法を用いることで、MoS₂膜の最適な成膜条件と後処理条件の検討を行った。条件の検討を行うにあたり、MoS₂膜の結晶性をラマン散乱分光法により評価した。