2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

11 超伝導 » 11.5 接合,回路作製プロセスおよびデジタル応用

[10p-S223-1~11] 11.5 接合,回路作製プロセスおよびデジタル応用

2019年3月10日(日) 13:45 〜 16:45 S223 (S223)

宮嶋 茂之(情通機構)、山梨 裕希(横国大)

16:15 〜 16:30

[10p-S223-10] 超伝導量子ビットに向けた強磁性ジョセフソン接合における臨界電流密度の障壁層膜厚依存性の評価

加藤 悠輝1、神谷 智大1、金 鮮美2、丘 偉2、寺井 弘高2、仙場 浩一2、山下 太郎1,3、藤巻 朗1 (1.名大院工、2.情通機構、3.JSTさきがけ)

キーワード:超伝導、量子ビット、ジョセフソン接合