2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

シンポジウム(口頭講演)

シンポジウム » 金属酸化物による新技術の開拓Ⅰ~薄膜形成からデバイス創出に至るまで~

[10p-W241-1~8] 金属酸化物による新技術の開拓Ⅰ~薄膜形成からデバイス創出に至るまで~

2019年3月10日(日) 13:30 〜 17:15 W241 (W241)

清水 耕作(日大)、木村 睦(龍谷大)

15:30 〜 16:00

[10p-W241-5] 酸化物半導体・デバイスの電子構造、材料設計と成膜条件

神谷 利夫1,2、細野 秀雄1,2 (1.東工大フロンティア研、2.東工大元素セ)

キーワード:酸化物半導体